


簡要描述:高通量催化劑合成工作站可實(shí)現(xiàn)催化劑全流程自動(dòng)化操作,涵蓋多種制備工藝,可通過沉淀法、浸漬法完成催化劑全自動(dòng)制備,制備后自動(dòng)進(jìn)行壓片造粒處理,確保顆粒規(guī)格均勻。后續(xù)可自動(dòng)完成裝柱管操作,將處理好的催化劑精準(zhǔn)裝入柱管,再自動(dòng)將柱管放入催化劑評價(jià)裝置,按預(yù)設(shè)參數(shù)開展催化劑活性評價(jià),全程無需人工過多干預(yù),高效實(shí)現(xiàn)催化劑合成與活性評價(jià)一體化。
產(chǎn)品型號:
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
更新時(shí)間:2026-05-28
訪 問 量:191| 價(jià)格區(qū)間 | 面議 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | 化工,石油,能源,制藥/生物制藥,綜合 |


| 單元名稱 | 模塊名稱 | 參數(shù)名稱 | 參數(shù)值 |
| 配置單元 | 機(jī)械臂 | 最大負(fù)載 | 5kg |
| 工作半徑 | 919mm | ||
| 重復(fù)定位精度 | 優(yōu)于±0.03mm | ||
| 快換旋轉(zhuǎn)夾爪 | 適用20mL、100mL試劑瓶開關(guān)蓋,試劑瓶、抽濾杯、坩堝轉(zhuǎn)移 | ||
| 快換開合夾爪 | 適用固體料倉轉(zhuǎn)移、試劑瓶轉(zhuǎn)移 | ||
| 快換移液泵 | 適配常用Tlp槍頭完成液體分裝轉(zhuǎn)移 | ||
| 酸堿中和 | PH值范圍 | 1-13 | |
| PH電極 | 可自動(dòng)校準(zhǔn)并存儲校準(zhǔn)數(shù)據(jù) | ||
| PH電極 | 可自動(dòng)清洗 | ||
| 開瓶模塊 | 瓶身夾持夾爪 | 兼容20mL、100mL | |
| 多位瓶蓋緩存位 | 實(shí)現(xiàn)不同規(guī)格瓶蓋緩存 | ||
| 緩存模塊 | Tlp槍頭區(qū) | 3位,每位96支(標(biāo)準(zhǔn)Tlp槍頭托盤) | |
| 廢料收集區(qū) | 1位,用于廢棄Tlp槍頭收集、廢棄瓶蓋回收等 | ||
| 瓶蓋存放區(qū) | 6位,適配20mL試劑瓶蓋 | ||
| 原液瓶緩存區(qū) | 4位,適配100mL試劑瓶 | ||
| 托盤緩存區(qū) | 4位,兼容坩堝、多規(guī)格試劑瓶、抽濾杯、固體料倉等 | ||
| 反應(yīng)模塊 | 移液模組 | 6×5mL,其中一個(gè)通道可擴(kuò)展25mL;可調(diào)間距(9-20mm) | |
| 磁力攪拌 | 6個(gè)托盤,每托盤6位 | ||
| 溫度控制范圍 | 室溫-220℃ | ||
| 負(fù)壓抽濾 | 3個(gè)托盤,每托盤6位 | ||
| 壓片造粒單元 | 壓片模塊 | 壓片工位 | 2個(gè),一個(gè)壓片,一個(gè)將物料倒入研磨治具 |
| 壓頭存放工位 | 2個(gè),分別適配15mm和28mm壓片 | ||
| 機(jī)械臂模塊 | 最大負(fù)載 | 5kg | |
| 工作半徑 | 919mm | ||
| 重復(fù)定位精度 | 優(yōu)于±0.03mm | ||
| 快換開合夾爪 | 適配坩堝、抽濾杯 | ||
| 快換刮刀夾爪 | 用于高溫烘焙后坩堝中物料刮取 | ||
| 快換壓片治具夾爪 | 用于轉(zhuǎn)移壓片治具 | ||
| 快換研磨夾頭夾爪 | 用于壓片后片狀物研磨 | ||
| 清洗模塊 | 清洗工位 | 每個(gè)工位支持兩個(gè)治具同時(shí)清洗 | |
| 清洗功能 | 沖淋、吹掃、熱風(fēng)烘干 | ||
| 造粒模塊 | 過濾網(wǎng)組件 | 最上層60目,中間層40目,底部收集治具 | |
| 成型率 | ≥80% | ||
| 負(fù)壓加料精度 | ±0.5mL | ||
| 干燥單元 | 全自動(dòng)烘箱模塊 | 工作溫度范圍 | 室溫-250℃ |
| 干燥單元 | 全自動(dòng)烘箱模塊 | 開關(guān)門 | 自動(dòng)開關(guān)門 |
| 腔體控制 | 三腔體獨(dú)立控制,每腔體3個(gè)工位 | ||
| 工作溫度范圍 | 室溫-800℃,最高1000℃ | ||
| 焙燒單元 | 全自動(dòng)馬弗爐 | 升溫速率 | 5-15℃/min |
| 冷卻速率 | 20-30℃/min | ||
| 開關(guān)門 | 自動(dòng)開關(guān)門 | ||
| 腔體控制 | 三腔體獨(dú)立控制,每腔體2個(gè)工位 |